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書誌情報:Resists in microlithography and printing
Bohumil Bednář, Jaroslav Králíček, and Jaromír Zachoval
with contributions by Andrey V. Yelcov and Tatyana A. Yurre.
2nd rev. ed.
New York ; Amsterdam : Elsevier , 1993.
376 p. : ill. ; 25 cm.


  


所蔵一覧
巻号予約人数所在請求記号資料ID状態貸出区分備考 
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書誌詳細
刊年1993
形態376 p. : ill. ; 25 cm.
統一書名Litografické techniky.
シリーズ名Materials science monographs ; 76
注記Translation of: Litografické techniky.
Includes bibliographical references and index.
出版国オランダ
標題言語英語
本文言語英語
原作言語チェコ語
著者情報Bednář, B.
Králíček, Jaroslav.
Zachoval, Jaromír.
分類LCC:TK7871.85
DC20:621.381/52
ISBN0444988467
件名LCSH:Semiconductors -- Designandconstruction.
LCSH:Integratedcircuits -- Verylargescaleintegration -- Designandconstruction.
LCSH:Microlithography.
LCSH:X-raylithography.
LCSH:Lithography,Electronbeam.
LCSH:Semiconductors
番号NBN : GB93-35467LCCN : 92005585

   
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