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書誌情報:Reaction kinetics of remote plasma-enhanced chemical vapor deposition
by Brian George Anthony.
: , 1991.
vi, 146 leaves : ill. ; 29 cm.


  


所蔵一覧
巻号予約人数所在請求記号資料ID状態貸出区分備考 
1 0中央５階洋
  • 549.2
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書誌詳細
刊年1991
形態vi, 146 leaves : ill. ; 29 cm.
注記Vita.
Thesis (Ph. D.)--University of Texas at Austin, 1991.
Includes bibliographical references (leaves 139-146).
Photocopy. Ann Arbor, MI : UMI, 1992. 22 cm.
出版国[出版地不明]，又は[s.l.]
標題言語英語
本文言語英語
著者情報Anthony, Brian George, 1961-
件名LCSH:Plasma-enhancedchemicalvapordeposition.
LCSH:Chemicalkinetics.
LCSH:Crystalsatlowtemperatures.
LCSH:Siliconcrystals.
LCSH:Crystalgrowth.
LCSH:Epitaxy.
LCSH:Semiconductorfilms.

   
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