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関連資料一覧：（本学所蔵）
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著者情報：Fan, Der-Tsyr, 1959-
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 資料名所蔵館責任表示出版者出版年所在
1書影Annealing and diffusion characteristics of boron through-oxide implanted silicon 中央図書館by Der-Tsyr Fan. 1991中央５階洋 549.8||F 14
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