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書誌情報:最新機能成膜プロセス技術 : エレクトロニクスにおける機能膜作製技術
サイシン キノウ セイマク プロセス ギジュツ : エレクトロニクス ニ オケル キノウマク サクセイ ギジュツ
逢坂哲彌,二瓶公志編集
東京 : 広信社 , 1987.6
862p ; 27 cm
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所蔵一覧
巻号予約人数所在請求記号資料ID状態貸出区分備考 
1 0中央２階
  • 571.4
  • Sa 22
  •  
00522474 利用可
一般 

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書誌詳細
刊年1987
形態862p ; 27 cm
注記各章末:文献
出版国日本
標題言語日本語
本文言語日本語
著者情報逢坂, 哲彌(1945-) (オオサカ, テツヤ)
二瓶, 公志(1937-) (ニヘイ, コウジ)
分類NDC8:571.4
NCIDBN01531664

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