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書誌情報:国際特許管理の日本的展開 : GEと東芝の提携による生成と発展
コクサイ トッキョ カンリ ノ ニホンテキ テンカイ : GE ト トウシバ ノ テイケイ ニヨル セイセイ ト ハッテン
西村成弘著
東京 : 有斐閣 , 2016.12
vi, 334p : 挿図 ; 22cm


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所蔵一覧
巻号予約人数所在請求記号資料ID状態貸出区分備考 
1 0中央5階
  • 507.23
  • N 84
  •  
00965389 利用可
一般 

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書誌詳細
刊年2016
形態vi, 334p : 挿図 ; 22cm
別書名International patent management in Japan : the formation and development of local patent management via cooperation between GE and Toshiba
注記参考文献・資料一覧: p311-322
出版国日本
標題言語日本語
本文言語日本語
著者情報西村, 成弘 (ニシムラ, シゲヒロ)
分類NDC8:507.23
NDC9:507.23
ISBN9784641164819
件名BSH:特許管理 -- 歴史
BSH:東芝
BSH:ゼネラル・エレクトリック社
NCIDBB22813320

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