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書誌情報:High resolution inorganic photoresist lithography
by Shao- Wen Hsia.
: , 1991.
xiii, 151 leaves : ill. ; 29 cm.


  


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巻号予約人数所在請求記号資料ID状態貸出区分備考 
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書誌詳細
刊年1991
形態xiii, 151 leaves : ill. ; 29 cm.
注記Thesis (Ph. D.)--Arizona State University, 1991.
Bibliography: leaves [128]-140.
Photocopy. Ann Arbor, MI : UMI, 1992. 22 cm.
出版国[出版地不明]，又は[s.l.]
標題言語英語
本文言語英語
著者情報Hsia, Shao-wen.
件名LCSH:Photolithography.
LCSH:Photoresists.
LCSH:Integratedcircuits -- Designandconstruction.

   
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