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書誌情報:Glow discharge processes : sputtering and plasma etching
Brian Chapman.
New York : Wiley , 1980.
xv, 406 p. : ill. ; 24 cm.


  


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巻号予約人数所在請求記号資料ID状態貸出区分備考 
1 0中央５階洋
  • 427.7
  • C 33
  •  
00510532 利用可
一般 

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書誌詳細
刊年1980
形態xv, 406 p. : ill. ; 24 cm.
注記"A Wiley-Interscience publication."
Includes index.
Bibliography: p. 397-400.
標題言語英語
本文言語英語
著者情報Chapman, Brian N.
分類LCC:QC702.7.P6
DC:537.5/2
ISBN047107828X
件名LCSH:Sputtering(Physics)
LCSH:Glowdischarges.
LCSH:Plasmaetching.
番号LCCN : 80017047

   
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