デバイスとプロセス
書誌情報:デバイスとプロセス
デバイス ト プロセス
西澤潤一編
東京 : 工業調査会 , 1987.8-
冊 ; 27cm
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所蔵一覧
巻号予約人数所在請求記号資料ID状態貸出区分備考 
1[その1]0中央２階
  • 549.8
  • H 29
  • 26
00520372 利用可
一般 
0中央５階
  • 428.85
  • H 29
  • 26
00398405 利用可
一般 
2その20中央２階
  • 549.8
  • H 29
  • 28
00520373 利用可
一般 
0中央５階
  • 428.85
  • H 29
  • 28
00412549 利用可
一般 
3その30中央２階
  • 549.8
  • H 29
  • 30
00520375 利用可
一般 
0中央５階
  • 428.85
  • H 29
  • 30
00430939 利用可
一般 
4その40中央２階
  • 549.8
  • H 29
  • 32
00520377 利用可
一般 
0中央５階
  • 428.85
  • H 29
  • 32
00447516 利用可
一般 
5その50中央２階
  • 549.8
  • H 29
  • 34
00520379 利用可
一般 
0中央５階
  • 428.85
  • H 29
  • 34
00471259 利用可
一般 
6その60中央５階
  • 428.85
  • H 29
  • 36
00485331 利用可
一般 
7その70中央５階
  • 428.85
  • H 29
  • 38
00495879 利用可
一般 
8その80中央５階
  • 428.85
  • H 29
  • 40
00517433 利用可
一般 
9その90中央５階
  • 428.85
  • H 29
  • 41
00539117 利用可
一般 
10その100中央５階
  • 428.85
  • H 29
  • 42
00539589 利用可
一般 
11その110中央５階
  • 428.85
  • H 29
  • 43
00540395 利用可
一般 
12その120中央２階
  • 549.8
  • H 29
  • 44
00624159 利用可
一般 
13その130中央２階
  • 549.8
  • H 29
  • 45
00663563 利用可
一般 
14その140中央２階
  • 549.8
  • H 29
  • 46
00666617 利用可
一般 

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書誌詳細
刊年1987
形態冊 ; 27cm
シリーズ名半導体研究 ; 26, 28, 30, 32, 34, 36, 38, 40-46巻[超LSI技術 ; 11-24]
注記各章末: 参考文献
出版国日本
標題言語日本語
本文言語日本語
著者情報西澤, 潤一(1926-) (ニシザワ, ジュンイチ)
半導体研究振興会 (ハンドウタイ ケンキュウ シンコウカイ)
分類NDC8:549
ISBN4769310617([その1])
4769310684(その2)
4769310749(その3)
4769310838(その4)
4769310889(その5)
4769310978(その6)
4769311133(その7)
476931129X(その8)
4769311400(その9)
4769311486(その10)
4769311567(その11)
476931163X(その12)
4769311737(その13)
4769311869(その14)
件名BSH:半導体
NDLSH:半導体
NDLSH:集積回路
NCIDBN01703089

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