プロセスの低温化
書誌情報:プロセスの低温化
プロセス ノ テイオンカ
西澤潤一編
東京 : 工業調査会 , 1985.3
10, 331p, 挿図 ; 27cm
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所蔵一覧
巻号予約人数所在請求記号資料ID状態貸出区分備考 
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0中央５階
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  • H 29
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00380364 利用可
一般 

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書誌詳細
刊年1985
形態10, 331p, 挿図 ; 27cm
シリーズ名半導体研究 ; 21巻[超LSI技術 ; 8]
注記執筆: 石川潔ほか
各章末: 参考文献
出版国日本
標題言語日本語
本文言語日本語
著者情報西澤, 潤一(1926-) (ニシザワ, ジュンイチ)
分類NDC8:549
ISBN4769310439
件名NDLSH:半導体
NCIDBN00282757
番号NBN : JP85035302

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